EDWARDS干式真空泵IQDP40、IQDP80、QDP40、QDP80、iH80、iH160、iH1000、iH1800

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EDWARDS干式真空泵系统IQDP40、IQDP80、iH160、iH1000半导体应用

如何在半导体制造过程中获得高质量的真空环境？

在半导体制造过程中，经常涉及纳米级别的物理或化学反应，在这种情况下，若处于通常的大气状态将很大程度影响半导体质量。以外延生长为例，在常规环境下，晶体表面将接触几亿个气体分子，会阻碍外延层的有序排列，引入大量缺陷。合适稳定的真空度将为半导体的性能提供有利基础。

半导体的工厂环境需要非常接近，千级、百级、十级是对空气颗粒度的要求，但是真空需要达到万分之一的压力，这个级别几乎是0级的，达到一个非常洁净的环境。

洁净的环境有两点不同的要求：

、要稳定的维持在这个低压的环境，稍微的压力回升，就意味着杂余的分子会扩散回来，破坏掉洁净的环境。

二、真空泵在没有运作起来以前，是暴露在大气里的，所以我们的真空设备以及相关的电气控制设备，它的污染程度不能它所处的洁净环境，这就要求真空泵在制造过程中也要像生产F1赛车一样在一个洁净的环境里面去生产，所以这个是半导体真空泵面临的两个主要挑战。

哪些半导体制程可能会用到真空泵？

干式真空泵是半导体各制程中的通用设备，应用于单晶拉晶、Load-Lock、刻蚀、CVD、原子层沉积（ALD）、封装、测试等清洁严苛的制程。

EDWARDS干式真空泵系统有哪些系列和型号？

iH系列半导体干式真空泵型号包括：iH80、iH160、iH1000、iH1800

iXH系列半导体干式真空泵型号包括：iXH100、iXH200、iXH200H、iXH500H、iXH500Q、iXH610、iXH645H、iXH1210、iXH1210H、iXH1220H。

iXL系列半导体干式真空泵：iXL120、iXL120N、iXL1000、IPUP2、iXL250Q、iXL500Q、iXL500R、iXL750Q

EPX系列半导体干式真空泵：EPX180L、EPX180LE、EPX180N、EPX180NE、EPX500L、EPX500LE、EPX500N、EPX500NE。

GX系列半导体干式真空泵：GX100L、GX100N、GX300L、GX600L、GX600N、GX1000N。

IQDP系列半导体干式真空泵：IQDP40、IQDP80

QDP系列半导体干式真空泵：QDP40、QDP80

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